納米顆粒粒徑檢測是指在三維空間中至少有一維處于納米尺寸(1-100nm)或由它們作為基本單元構成的材料。由于它的尺寸很小，會產(chǎn)生很多特殊的效應，比如小尺寸效應、隧道效應以及大的比表面積效應等，因此使得納米材料表現(xiàn)出不同的物理化學特性，例如熔點、磁性、光學、導熱、導電特性等等，因而現(xiàn)在納米材料被廣泛應用于醫(yī)藥、化工、冶金、電子、機械、輕工、建筑及環(huán)保等行業(yè)。

 

　　為了實現(xiàn)掃描電子顯微鏡（SEM）對納米顆粒粒徑檢測的準確測量，研究了一種SEM放大倍數(shù)校準和光柵間距測量的方法；在SEM的不同放大倍數(shù)下對光柵納米結構樣板成像，運用軟件對顯微鏡圖像進行灰度處理并讀取灰度圖像的亮度值數(shù)據(jù)，通過確定頂線、基線、底線位置，有效消除成像質(zhì)量及數(shù)據(jù)處理等的誤差，準確確定質(zhì)心橫坐標，采用質(zhì)心算法求取平均光柵間距，通過與光柵間距標稱值比較計算校準系數(shù)和校準誤差；為驗證放大倍率校準結果的可靠性，對納米顆粒粒度標準物質(zhì)進行測量。實際測量的平均粒徑與標準值一致，表明該校準方法準確可靠，可有效避免圖像質(zhì)量和人為因素對測量結果的影響，達到對納米和亞微米顆粒粒徑準確測量的目的。